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王颢，魏昕1，尹兴2，吴建聪1，汪永超1,3，蔡鹏2
（1.广东工业大学机电工程学院，广州510006；
2.万峰石材科技股份有限公司，佛山 528300；
3.东源广工大现代产业研究院，河源 517500）
摘要：本文分析了大平面机械抛光运动过程，以Preston假设为基础，建立了大平面机械抛光均匀性的仿真模型，研究工艺参数对磨抛均匀性和效率的影响规律。发现在磨头转速确定的情况下，板材进给速度是决定磨抛均匀性和效率的主要因素，并获得了在不同进给速率下的最优工艺参数组合。进一步采用科达SML系列连续磨机对人造石板材进行抛光实验，研究抛光后板材的光泽度分布规律。
关键词：平面抛光；均匀性；工艺优化
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